中国euv光刻机三大突破（光刻机的三个系统）

目前世界上只有asml一家公司能生产最先进的EUV光刻机。

光刻机共有三个核心部件，一是双载物台，二是EUV光源，三是EUV光学镜头。顾名思义，高能同步光源设备是应用于EUV光源的设备。

据最新消息，清华大学已与北京华卓精密有限公司合作，实现了65nm工艺光刻机所需的双级系统。

据央视报道，中国科学院高能物理研究所打造了国内首台高能同步辐射光源设备，为该光源设备提供技术支持的试验平台也已开始试运行。

光刻机主要包括三个子系统：光源、投影物镜和工件台等部件。其中，光源系统主要用于发射激光，投影物镜系统主要用于精确聚焦光线，工件台主要用于承载硅片并根据光刻要求进行精确移动，决定了光刻机的分辨率和生产效率。

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黄飞